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ZKDRL系列 射頻發(fā)生器
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在半導體行業(yè)、光伏產(chǎn)業(yè)、平板顯示器行業(yè)、材料化工、科研實驗室等領域適用。滿足廣泛的工藝需求:等離子體清洗、等離子體刻 蝕、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、反應濺射、射頻離子源等。

產(chǎn)品特點

    機柜安裝方式標準設計;

    采用全數(shù)字控制,操控友好直觀;
    進線配置APFC,輸入側(cè)功率因數(shù)高,諧波低,
    功放和直流控制模塊匹配穩(wěn)定;

    輸出額定功率的駐波極低;
    支持通用標準的相位調(diào)節(jié);

   ●  支持可編程模擬量輸出

   ●  保護功能完善響應極快

 


產(chǎn)品參數(shù)

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